Oberflächen mit flexiblen und handlichen Plasmaquellen aktivieren
Kompakte, atmosphärische Plasmaquelle im 2,45 GHz-ISM-Band, u.a. geeignet zur Oberflächenaktivierung oder in der Medizin | (© FBH/D. Wolf)
FBH – 16.10.2018:

Oberflächen mit flexiblen und handlichen Plasmaquellen aktivieren

Das FBH zeigt auf der SEMICON Europa eine kompakte atmosphärische Plasmaquelle im Betrieb und weitere Entwicklungen aus der III/V-Elektronik.

Auf der Fachmesse SEMICON Europa in München stellt das Ferdinand-Braun-Institut, Leib-niz-Institut für Höchstfrequenztechnik (FBH) vom 13. bis 16. November 2018 aktuelle Neu- und Weiterentwicklungen vor. Das Institut präsentiert sich auf dem Gemeinschaftsstand der »Forschungsfabrik Mikroelektronik Deutschland« in Halle A4, Stand 504.

Am Messestand zeigt das FBH unter anderem eine kompakte atmosphärische Plasmaquelle, die sich zum Beispiel für die Behandlung von Oberflächen und zur Integration in Produktions- oder Prozessmaschinen eignet. Vor Ort werden beispielhaft Test-Oberflächen aktiviert, um sie etwa zum Drucken oder Beschichten vorzubereiten. Die Quelle im 2,45 GHz-ISM-Band besteht aus einem Mikrowellen-Leistungsoszillator, einem Resonator zur Plasma-Anregung und der Ansteuerelektronik, die gemeinsam in einem kompakten Gehäuse integriert sind. Die Zufuhr des Plasma-Mediums (Luft, Sauerstoff, Argon, …) sowie des Kühlmediums ist so fle-xibel realisiert, dass die Quelle sowohl händisch (z.B. in der Medizin) wie auch in Produktions- oder Prozessmaschinen (z.B. Druckindustrie, Beschichtungsanlagen) integriert werden kann. Die Plasmaquelle erreicht eine Leistung um die 20 W, was für viele Anwendungen ausreicht.

Am Messestand ist zudem eine All-in-One-Pulslichtquelle (PLS) zu sehen, die zwei Kern-kompetenzen des FBH vereint: maßgeschneiderte Diodenlaser für die Impulserzeugung in Verbindung mit optimierten Hochgeschwindigkeits-Komponenten für die Ansteuerung. Die PLS liefert hochpräzise Pulse im Piko- und Nanosekundenbereich mit Nanojoule-Energien. Pulsenergie, -weite, und -abstand sowie Wiederholfrequenzen lassen sich dabei flexibel an-passen. Das Lasersystem bietet frei wählbare Folgefrequenzen vom Hertz- bis in den Mega-hertz-Bereich und Pulsspitzenleistungen von bis zu 50 Watt. Das All-in-One-System kann computergesteuert in mehreren Puls-Modi geschaltet werden und lässt sich einfach in ver-schiedenste Lasersysteme integrieren.

Außerdem stellt das FBH den Demonstrator eines potentialfreien differentiellen Tastkopfs zum Messen hoher Ströme vor. Mit diesem Messadapter für Oszilloskope können differenti-elle elektrische Signale im Frequenzbereich von DC bis über 1 GHz galvanisch getrennt ge-messen werden – auch bei Überlagerung durch eine hohe Gleichtaktspannung. Als weiteres Exponat sind heterointegrierte Chips für Terahertz-Anwendungen zu sehen, die die Vorteile zweier Technologiewelten auf Chipebene vereinen: die hohen Ausgangsleistungen von Indi-umphosphid mit der Komplexität der Siliziumtechnologie.

Besuchen Sie uns am Gemeinschaftsstand der »Forschungsfabrik Mikroelektronik Deutschland« (FMD) in Halle A4, Stand 504 (13.-16.11.2018), Messe München.

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Kontakt:

Petra Immerz, M.A.
Communications Manager
Ferdinand-Braun-Institut, Leibniz-Institut für Höchstfrequenztechnik

Gustav-Kirchhoff-Straße 4, 12489 Berlin
Tel.     030.6392-2626
Fax     030.6392-2602
E-Mail  petra.immerz@fbh-berlin.de
Web     www.fbh-berlin.de

 

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